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> > > 안테나 방사 패턴 측정 시스템 > > 안테나 방사 패턴 측정 시스템은 턴테이블의 물체를 회전시키고 방사능을 측정합니다. > > 무향실이 필요 없고 사무실이나 연구실 내부에서 설치 측정 합니다. > X, Y 및 Z 축을 중심으로 회전하면 소프트웨어가 패턴을 플로팅하고 총 복사 전력 (TRP)을 포함한 통계를 계산합니다. 각 측정 지점은 여러 주파수의 스위프를 포함 할 수 있으므로 여러 방사 패턴을 하나의 회전 시퀀스로 측정 할 수 있습니다. > > Generator 옵션을 사용하면 RMS는 안테나 스위프를 수행하고 주파수에 따른 안테나 이득을 표시 할 수도 있습니다. > > RMS는 작은 장치를위한 개체 고정 장치와 함께 제공되어 개체 테이블의 직교 위치에서 EUT를 쉽게 배치 할 수 있습니다. 라벨링 시스템은 사용자가 축을 추적하는 데 도움이됩니다. > > RMS 시스템은 적당한 공간에서 잘 작동합니다. 4 x 4 x 3m 공간은 800MHz 이상에서 잘 작동합니다. 더 작은 공간이나 더 낮은 주파수의 경우 몇 가지 전략적 흡수기가 필요할 수 있습니다. > > RMS는 다음의 측정에 사용됩니다: > > 무선 장치의 방사 출력 전력 패턴 > 무선 장치의 고조파 방사 패턴 (최대 6GHz) > 생성기 옵션을 사용하는 독립형 안테나의 이득 및 방사 패턴 > 안테나 주파수에 따른 이득 > 안테나 주파수에 따른 방사 패턴 > 주파수에 따른 지향성 안테나의 빔 폭 및 최대 이득 > > https://ltech.co.kr/pages/RMS > e-mail:lee(at)ltechrf.com > (주)엘텍알에프 > >
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