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> > > 안녕하세요 반도체 업계 종사하고있는 아무개입니다. > > depositon 설비에서 plasma 생성을 위해 dual frequency로 HF랑 LF generator를 사용하고 있는데요. > > LF available power라는 항목이 설비에서 올라오고 있는데 정확이 어떤 항목인지 모르겠습니다. > 설명서에서는 아래와 같이 설명해주고 있는데 화학돌이다 보니 와닫지가 않네요. > Displays the currently available power percentage (1–100%) that the generator can produce out of the maximum power. > > 대충 HF generator에서는 impedance, LF generator에서는 해당 항목이 올라오고 두 항목이 서로 연관이 있다 정도로만 경험적으로 알고 있는데 도움 부탁 드리겠습니다. > >
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