안녕하세요 반도체 업계 종사하고있는 아무개입니다.
depositon 설비에서 plasma 생성을 위해 dual frequency로 HF랑 LF generator를 사용하고 있는데요.
LF available power라는 항목이 설비에서 올라오고 있는데 정확이 어떤 항목인지 모르겠습니다.
설명서에서는 아래와 같이 설명해주고 있는데 화학돌이다 보니 와닫지가 않네요.
Displays the currently available power percentage (1–100%) that the generator can produce out of the maximum power.
대충 HF generator에서는 impedance, LF generator에서는 해당 항목이 올라오고 두 항목이 서로 연관이 있다 정도로만 경험적으로 알고 있는데 도움 부탁 드리겠습니다.
